三星电子近日引进了全球唯一由ASML生产的高NA EUV曝光设备“EXE:5000”，标志着其在半导体制造领域迈出了关键一步。该设备的价值高达5000亿韩元（约24.95亿元人民币），并将推动三星在下一代2nm以下半导体工艺的布局。
高NA EUV设备比现有的EUV设备具备更强的性能，其提升了光学透镜的聚光能力，允许在更小的尺度上绘制电路，降低功耗并提高处理速度。因此，这一设备被认为是2nm及以下工艺不可或缺的核心工具。全球主要半导体厂商纷纷引进该设备，包括英特尔和台积电，后者甚至已完成了2nm试产，并取得了60%的良率。
尽管三星在去年第四季度晶圆代工市场的份额有所下滑，市调机构TrendForce数据显示其占比已降至8.1%，台积电继续稳居领先地位。但随着高NA EUV设备的引入，三星有望在2nm工艺的竞争中迎头赶上。该公司还计划加速建设全方位的生态系统，以应对日益激烈的市场挑战。
三星晶圆代工业务负责人韩进万表示，虽然在环栅（GAA）工艺的转型中取得了进展，但商业化仍存在挑战，提升2nm工艺产能将是未来工作的重中之重。
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